EBARA 干式真空泵EV-M系列

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2025/12/25 16:51:01
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EBARA 干式真空泵 EV-M 系列是专为应对半导体、液晶和太阳能电池制造过程中产生大量副产物的高负荷工艺而设计的。以下是其详细介绍：产品特点高效节能：采用智能控制系统，具备怠速模式，可根据实际负载情况自动调节运行状态，有效降低能耗，实现显著的节能效果。耐腐蚀性…

EBARA 干式真空泵 EV-M 系列是专为应对半导体、液晶和太阳能电池制造过程中产生大量副产物的高负荷工艺而设计的。
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以下是其详细介绍：

产品特点

  • 高效节能：采用智能控制系统，具备怠速模式，可根据实际负载情况自动调节运行状态，有效降低能耗，实现显著的节能效果。

  • 耐腐蚀性能强：标准配置耐腐蚀性材料，能够耐受腐蚀性气体的侵蚀，适用于处理各种腐蚀性工艺气体，满足高负荷工艺需求。

  • 抽气速度快：采用多级罗茨型设计，与螺杆式真空泵相比，具有更高的氢气抽速，能够提供出色的抽气 throughput，在恶劣工况下表现优异。

  • 占地面积小：设计紧凑，占用空间小，可节省宝贵的工厂空间，便于安装和集成到各种真空系统中。

  • 功能先进：搭载高性能通信功能，采用先进的控制方式，具有温度保持功能和报警历史记录功能，可实现对泵的高度精确控制和状态监控。

技术参数

型号EV-M20NEV-M102NEV-M202NEV-M302NEV-M502NEV-M802N
抽气速度（L/min）18001000020000300005000080000
极限压力（Pa）5.00.50.50.50.50.5
进气口连接口径NW40ISO100ISO100ISO100ISO160ISO160
排气口连接口径NW40NW40NW40NW40NW40NW40
极限压力时电力（kW）1.21.81.92.32.12.8
冷却水流量（L/min）3-83-83.5-84-85-85-8

应用领域

EV-M 系列干式真空泵主要应用于半导体制造领域的化学气相沉积（CVD）、物理气相沉积（PVD）、蚀刻等工艺，也可用于光伏、液晶显示等行业中需要高真空度和处理腐蚀性气体的场合。


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