EBARA TND 系列是低 NOₓ燃烧式排废处理装置

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2025/12/25 17:13:40
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EBARA TND 系列是低 NOₓ燃烧式排废处理装置,主打低排放、长维护周期、低运行成本,适配半导体 PFCs / 含氟 / 硅系等难处理废气,以 “燃烧 + 洗涤” 双段工艺实现高 DRE,适配刻蚀、CVD 等制程,可与 EV‑PA/EV‑M 等干式真空泵联动。以下是核心信息:核心特点低排放清

EBARA TND 系列是低 NOₓ燃烧式排废处理装置,主打低排放、长维护周期、低运行成本,适配半导体 PFCs / 含氟 / 硅系等难处理废气,以 “燃烧 + 洗涤” 双段工艺实现高 DRE,适配刻蚀、CVD 等制程,可与 EV‑PA/EV‑M 等干式真空泵联动。以下是核心信息:

核心特点

  1. 低排放清洁燃烧:独创燃烧技术,NOₓ/CO 排放远低于传统燃烧式,符合半导体 SEMI‑S2 与环保标准,无需额外脱硝 / 脱碳设备,降低合规成本

  2. 长周期低维护:全流路防腐蚀 / 防副产物附着设计,副产物自动排出,维护间隔达传统产品 3 倍以上,显著减少停机与耗材更换频次

  3. 双配置适配广:分 TND‑Single(燃烧 + 水洗涤)与 TND‑Single Plus(前段洗涤 + 燃烧 + 水洗涤),前者适配常规废气,后者适配高副产物 / 高腐蚀性工况,选型更精准

  4. 低能耗高 DRE:高效燃烧室 + 低能耗设计,处理 PFCs 等气体 DRE>99.9%,运行成本低于同类燃烧式设备,且无明火安全隐患

  5. 真空‑排废一体化:无缝匹配 EBARA 全系列干式真空泵,支持远程监控与自动联锁,适配半导体 Sub‑fab 狭小空间安装

主流型号与关键参数(典型值)

型号最大处理风量(L/min)核心处理气体适用制程适配前级泵配置特点
TND‑Single P11000CF₄、SF₆、SiH₄、NH₃、HF 等刻蚀、CVD 等中小流量EV‑PA/EV‑SA 小型干式泵单模块,燃烧 + 洗涤,紧凑安装
TND‑Single P22000同上中等流量刻蚀、ALDEV‑M/ESA 中型干式泵双模块,处理能力更强
TND‑Single P33000同上批量 CVD、大流量刻蚀EV‑M/EST 中大型干式泵多模块,适配高负载工况
TND‑Single Plus P22000高副产物 / 高腐蚀气体(如 WF₆、SiCl₄)先进制程刻蚀 / 外延EV‑M/EST 中大型干式泵三段式,前段预洗 + 燃烧 + 后洗

典型应用

  • 半导体制造:刻蚀(含氟)、CVD、外延等 PFCs / 硅系 / 含氟废气处理,尤其适配 28nm 及以下先进制程。

  • 显示与光伏:LCD/OLED 薄膜沉积、光伏 PERC / 异质结工艺的含硅 / 含氟废气净化。

  • 科研与特种材料:涉及 PFCs、硅烷类等有害气体的实验室与材料研发废气处理。