EBARA G-WS 是紧凑型湿式洗涤式排废处理装置

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2025/12/25 17:12:31
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EBARA G - WS 是紧凑型湿式洗涤式排废处理装置,核心优势为低初购 / 运行成本、长维护周期、省空间,专为半导体等行业常温水溶性有害气体处理设计,适配外延、ALD、金属刻蚀等制程,可一括处理 NH₃、HF、HCl、WF₆等多种气体。以下是详细信息:核心特点低成本高效处理:…

EBARA G - WS 是紧凑型湿式洗涤式排废处理装置,核心优势为低初购 / 运行成本、长维护周期、省空间,专为半导体等行业常温水溶性有害气体处理设计,适配外延、ALD、金属刻蚀等制程,可一括处理 NH₃、HF、HCl、WF₆等多种气体。以下是详细信息:

核心特点

  1. 低成本高效处理:无需燃料,运行成本低,初购成本显著低于燃烧式处理装置;常温吸收工艺,可一括处理多种水溶性气体,处理效率(DRE)高,副产物固定化设计,避免管路堵塞,维护周期长(依托荏原 10 年以上燃烧式设备的副产物对策技术)

  2. 省空间易维护:结构紧凑,仅需设备前方预留维护空间,适配半导体厂房狭小的 Sub - fab 区域;模块化设计,维护便捷,可快速更换部件,减少停机时间

  3. 安全与合规可靠:无明火风险,通过 SEMI - S2、CE、NRTL 等认证;流路防副产物附着设计,保障长期稳定运行,降低安全隐患

  4. 适配性强:可匹配 EV - PA/EV - SA/EV - M 等 EBARA 干式真空泵,形成真空 - 排废一体化系统;支持定制化化学药剂方案,适配不同制程气体处理需求。

主流型号与关键参数(典型值)

型号最大处理风量(L/min)处理对象气体适用制程适配前级泵特点
G - WS10001000NH₃、HF、HCl、DCS、TiCl₄、WF₆等外延、ALD、刻蚀等中小流量制程EV - PA/EV - SA 小型干式泵单模块,紧凑安装
G - WS20002000同上中等流量的刻蚀、CVD 等制程EV - M/ESA 中型干式泵双模块,处理能力更强
G - WS30003000同上较大流量的批量制程EV - M/EST 中大型干式泵多模块组合,适配高负载工况

典型应用

  • 半导体制造:外延、原子层沉积(ALD)、金属刻蚀、氮化硅制程等产生的水溶性工艺废气处理。

  • 光伏与电子材料:太阳能电池、LED 制造中含 NH₃、HF 等废气的净化。

  • 科研实验室:涉及水溶性有害气体的材料合成、刻蚀等实验的废气处理。